四腔室多功能气相沉积系统
四腔室多功能气相沉积系统

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地      址:  2号中心205

生产厂家:

型      号:  C500

购买日期: 1970/01/01

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参考收费标准
无
开放机时安排
无
主要规格和技术参数
腔室1配有共溅射4寸靶位4个，500W直流电源2个，1500W脉冲电源1个，300W射频电源1个；腔室2配有10寸靶位1个，3000W直流电源1个，1000W射频电源1个。
主要功能及特色
利用磁控溅射技术制备各种金属、陶瓷薄膜