参考收费标准
无
开放机时安排
无
主要规格和技术参数
曝光面积:4英寸；
光源:紫外LED，(寿命>20000h)；
曝光波长:365nm:20-40mW/cm；
分辨力:lum；
对准精度:±2um(双面)，±0.6um(单面)
主要功能及特色
光刻设备是研究、开发和生产各种电子信息产品以及微机电产品过程中专门用于材料制备、元器件加工、组合装调的设备，目前，光刻设备被广泛应用于半导体分立器件、压电电子器件智能传感器、显示、生物微流控芯片、微机械、微光学以及智能手机、通讯、电脑汽车、可穿戴装备等制造领域。