催化涂层物理气相沉积高通量制备系统
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地      址:  天府永兴实验室天府海创园12号楼B1F

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购买日期: 1970/01/01

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参考收费标准
无
开放机时安排
无
主要规格和技术参数
主要功能及特色
利用物理手段将靶材溅射成原子或离子，沉积在基材表面形成单层或多层复合膜