低温等离子体新材料制备系统
低温等离子体新材料制备系统

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地      址:  天府永兴实验室天府海创园12号楼3F311

生产厂家:

型      号:  HPD-280C+CTP-2800K

购买日期: 1970/01/01

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参考收费标准
无
开放机时安排
无
主要规格和技术参数
1.中心频率:10KHz 2.频率可调范围:5KHz~20KHz 3.电源功率:0~500W 4.输出电压:0~30KV
主要功能及特色
表面清洁‌、表面活化、表面粗糙化和蚀刻、涂层沉积和接枝、催化剂制备